Marzo 2, 2024

Conca Ternana Oggi

Ultime notizie e rapporti economici sull'Italia.

Un conveniente sistema di fotolitografia microscopica migliora la precisione della produzione

Un conveniente sistema di fotolitografia microscopica migliora la precisione della produzione

Le reti integrate di distribuzione, elaborazione e rilevamento del segnale ottico richiedono la miniaturizzazione degli elementi ottici di base, come guide d'onda, divisori, reticoli e interruttori ottici. Per raggiungere questo obiettivo, sono necessari metodi di produzione che consentano una produzione di alta precisione. Elementi curvi come curve e risonatori toroidali sono particolarmente difficili da produrre, perché richiedono maggiore precisione e minore rugosità delle pareti laterali. Inoltre, sono essenziali tecniche di produzione con controllo preciso delle dimensioni assolute della struttura.

Sono state sviluppate molte tecniche per la produzione ad alta precisione a lunghezze d'onda inferiori, come la scrittura laser diretta, la litografia multifotone, la litografia a fascio di elettroni, la litografia a fascio ionico e la litografia domino. Tuttavia, queste tecniche sono costose, complesse e richiedono molto tempo. La nanolitografia è una tecnologia di replica emergente adatta per una produzione efficiente e ad alta precisione. Tuttavia, sono necessari timbri master di alta qualità, che vengono generalmente prodotti utilizzando la litografia a fascio di elettroni.

In un nuovo articolo pubblicato su Light: Advanced Manufacturing, gli scienziati Dr.-Ing. Li Cheng et al. dell'Università Leibniz di Hannover, hanno sviluppato una tecnica di produzione a basso costo e facile da usare, chiamata fotolitografia a proiezione microscopica (MPP) basata su UV, per la fabbricazione rapida e ad alta precisione di elementi ottici in pochi secondi. Questo approccio trasferisce i modelli strutturali su una fotomaschera su un substrato rivestito di fotoresist sotto illuminazione UV.

Il sistema MPP si basa su elementi ottici e meccanici standard. Invece di una lampada al mercurio o di un laser, come sorgente luminosa viene utilizzata una lampada UV-LED molto economica con una lunghezza d'onda di 365 nm.

READ  Knockout City non mostra le tue statistiche complessive, il che è un problema

I ricercatori hanno sviluppato un processo precedente per ottenere la maschera di cromo con il modello strutturale richiesto nell'MPP. Comprende la progettazione della struttura, la stampa su un foglio trasparente e il trasferimento del modello su una fotomaschera cromata. Hanno allestito un impianto di litografia per preparare anche le fotomaschere. I motivi strutturali stampati sulla lamina trasparente possono essere trasferiti su una fotomaschera cromata utilizzando questa configurazione e il successivo processo di incisione a umido.

Il sistema MPP può fabbricare elementi ottici ad alta risoluzione con dimensioni fino a 85 nm. Ciò è paragonabile alla precisione di metodi di fabbricazione più costosi e complessi, come la litografia multifotone e a fascio elettronico. L'MPP può essere utilizzato per fabbricare dispositivi microfluidici, biosensori e altri dispositivi ottici.

Questo approccio di fabbricazione sviluppato dai ricercatori rappresenta un importante progresso nel campo della litografia per la strutturazione rapida e ad alta precisione di elementi ottici. È particolarmente adatto per applicazioni che richiedono una prototipazione rapida e una produzione a basso costo. Ad esempio, può essere utilizzato per sviluppare nuovi dispositivi ottici per la ricerca biomedica o per prototipare nuovi dispositivi MEMS per applicazioni di elettronica di consumo.

/Liberazione generale. Questo materiale dell'organizzazione/degli autori originali può essere di natura cronologica ed è modificato per motivi di chiarezza, stile e lunghezza. Mirage.News non assume posizioni aziendali o partiti e tutte le opinioni, posizioni e conclusioni qui espresse sono esclusivamente quelle degli autori. Visualizzale integralmente qui.